四川科研Nanoscribe微納光刻

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。

使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng)，德國科學(xué)家們一起研發(fā)了由管道相連接的多組柱狀體3D復(fù)雜微結(jié)構(gòu)支架。四川科研Nanoscribe微納光刻

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。

湖北2PPNanoscribe微流道增材制造技術(shù)具有高的堅固性，穩(wěn)定性，耐用性。

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程、微流體、微光學(xué)、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。 更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司。

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)Nanoscribe公司的3D微納加工技術(shù)推動著光子電路的研究和創(chuàng)新。湖北雙光子NanoscribePPGT

Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機器人等。四川科研Nanoscribe微納光刻

光學(xué)元件如何對準并打印到光子芯片上？打印對象的 3D 對準技術(shù)是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學(xué)元件，智能軟件算法會自動識別預(yù)定義的標記和拓撲特征，以確定芯片上波導(dǎo)的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設(shè)置到波導(dǎo)的出口，使其光軸和方向完美對準。 根據(jù)該坐標系打印的光學(xué)元件可確保好的光學(xué)質(zhì)量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術(shù)可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現(xiàn)高效的光耦合 。 詳情咨詢納糯三維科技（上海）有限公司四川科研Nanoscribe微納光刻