山東高精度灰度光刻

來源: 發(fā)布時間:2024-11-17

基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何,在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”。由于灰度光刻的高精度特性,它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題。山東高精度灰度光刻

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的子公司,開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù),對智能手機、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級3D打印光學(xué),甚至利用他們的技術(shù)來開發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作?!凹{米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體,使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度非常高。山東高精度灰度光刻與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比,灰度光刻在制造復(fù)雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢。

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納米紋理在納米技術(shù)中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是,實現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性,因為它需要對納米像素進行“灰度”打印,其中,納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法(例如,灰度光刻或掃描束光刻)可以滿足這種嚴(yán)格的要求,但通常其成本較高,并且它們中的大多數(shù)需要化學(xué)開發(fā)過程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重構(gòu)灰度納米像素打印技術(shù)受到高度追捧。

超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域,還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如,在新能源領(lǐng)域,它可以用于制造高效的太陽能電池板;在人工智能領(lǐng)域,它可以用于制造更快、更強大的計算芯片。這些應(yīng)用將進一步推動科技的發(fā)展,為人類創(chuàng)造更美好的未來。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過不斷突破科技邊界,攻克了一個又一個難題,從而實現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來了更多的機遇和挑戰(zhàn),也為科技進步做出了巨大貢獻。超高速灰度光刻技術(shù)的問世,標(biāo)志著科技進步的新里程碑。我們相信,在這項技術(shù)的推動下,未來將會有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來的美好未來!如需詳細(xì)了解雙光子聚合(2PP)和雙光子灰度光刻(2GL ?)的內(nèi)容請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用。山東雙光子灰度光刻3D光刻

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這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!山東高精度灰度光刻