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中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫，建議冷藏。雖然表面上的污點(diǎn)支架可能看起來部分干燥，印跡不會變干，因?yàn)槿芤喊诳蚣苤?。注意：如果長時(shí)間處理多個(gè)印跡，則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間?？蛇x：如果要回收一抗，請先將抗體回收盤放入底座，然后再繼續(xù)執(zhí)行步驟4。4.延長孵育時(shí)間后，將框架放回底座上，卸下蓋子，然后按照步驟8進(jìn)行操作。通用議定書第12條。注意：SNAP i.d不需要延長二抗的孵育時(shí)間。 2.0系統(tǒng)。建議使用5倍濃度的二抗，持續(xù)10分鐘?？贵w回收1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5，但將真空時(shí)間增加到2分鐘，以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座，確保抗體上的定崇明區(qū)MerckSNAPi.d.2.0加速器Merck儀器咨詢問價(jià)買細(xì)胞計(jì)數(shù)器就找益啟生物。

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