Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-03

參考材料備用BK7和二氧化硅參考材料。BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡BG-F10-RT平臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射率鋁基準(zhǔn)REF-Al-3mmSubstrate基底-高反射率鋁基準(zhǔn)REF-BK71?"x1?"BK7反射基準(zhǔn)。REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英,用于雙界面基準(zhǔn)。REF-Si-22"單晶硅晶圓REF-Si-44"單晶硅晶圓REF-Si-66"單晶硅晶圓REF-Si-88"單晶硅晶圓REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之鋁反射率基準(zhǔn)片REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之BK7玻璃反射率基準(zhǔn)片REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺(tái)設(shè)計(jì)之硅反射率基準(zhǔn)片厚度范圍: 測(cè)量從 1nm 到 13mm 的厚度。 測(cè)量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格

Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格,膜厚儀

F20系列是世界上蕞**的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),只需按下一個(gè)按鈕,不到一秒鐘即可同時(shí)測(cè)量厚度和折射率。設(shè)置也非常簡(jiǎn)單,只需把設(shè)備連接到您運(yùn)行Windows?系統(tǒng)的計(jì)算機(jī)USB端口,并連接樣品平臺(tái)就可以了。F20系列不同型號(hào)的選擇,主要取決于您需要測(cè)量的薄膜厚度(確定所需的波長(zhǎng)范圍)。型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F2015nm-70μm380-1050nmF20-EXR15nm-250μm380-1700nmF20-NIR100nm-250μm950-1700nmF20-UV1nm-40μm190-1100nmF20-UVX1nm-250μm190-1700nmF20-XTμm-450μm1440-1690nm*取決于薄膜種類Filmetrics膜厚測(cè)試儀通過(guò)分析薄膜的反射光譜來(lái)測(cè)量薄膜的厚度,通過(guò)非可見光的測(cè)量,可以測(cè)量薄至1nm或厚至13mm的薄膜。測(cè)量結(jié)果可在幾秒鐘顯示:薄膜厚度、顏色、折射率甚至是表面粗糙度。1.有五種不同波長(zhǎng)選擇(波長(zhǎng)范圍從紫外220nm至近紅外1700nm)2.蕞大樣品薄膜厚度的測(cè)量范圍是:3nm~25um3.精度高于、氧化物、氮化物;、Polyimides;3.光電鍍膜應(yīng)用:硬化膜、抗反射膜、濾波片。1.光源有壽命,不用時(shí)請(qǐng)關(guān)閉2.光纖易損,不要彎折,不要頻繁插拔3.精密儀器。介電材料膜厚儀保修期多久F3-s980 是波長(zhǎng)為980奈米的版本,是為了針對(duì)成本敏銳的應(yīng)用而設(shè)計(jì)。

Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格,膜厚儀

生物醫(yī)療設(shè)備涂層應(yīng)用生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類型的涂層。有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕,而其他的則是為了預(yù)防組織損傷、敢染或者是排異反應(yīng)。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學(xué)器械,如血管成型球囊,具有讀立的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作。這些涂層厚度的測(cè)量方法各不相同,但有一件事是確定的。使用普通方法(例如,在涂層前后稱某一部分的重量),無(wú)法檢測(cè)到則會(huì)導(dǎo)致器械故障的涂層不完全覆蓋或涂層的不均勻性。

生物醫(yī)療設(shè)備涂層應(yīng)用生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類型的涂層。有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕,而其他的則是為了預(yù)防組織損傷、敢染或者是排異反應(yīng)。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學(xué)器械,如血管成型球囊,具有讀立的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作。這些涂層厚度的測(cè)量方法各不相同,但有一件事是確定的。使用普通方法(例如,在涂層前后稱某一部分的重量),無(wú)法檢測(cè)到會(huì)導(dǎo)致器械故障的涂層不完全覆蓋或涂層的不均勻性??蛇x的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。

Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格,膜厚儀

FSM413紅外干涉測(cè)量設(shè)備關(guān)鍵詞:厚度測(cè)量,光學(xué)測(cè)厚,非接觸式厚度測(cè)量,硅片厚度,氮化硅厚度,激光測(cè)厚,近紅外光測(cè)厚,TSV,CD,Trench,砷化鎵厚度,磷化銦厚度,玻璃厚度測(cè)量,石英厚度,聚合物厚度,背磨厚度,上下兩個(gè)測(cè)試頭。Michaelson干涉法,翹曲變形。如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以給我留言!產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測(cè)量設(shè)備·產(chǎn)品型號(hào):FSM413EC,FSM413MOT,F(xiàn)SM413SADP,F(xiàn)SM413C2C,FSM8108VITEC2C如果您需要更多的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。F20-XT膜厚范圍:0.2μm - 450μm;波長(zhǎng):1440-1690nm。Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格

FSM413SP半自動(dòng)機(jī)臺(tái)人工取放芯片。Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格

非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的,必須有精確的厚度測(cè)量。測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。Filmetrics設(shè)備提供的復(fù)雜的測(cè)量程序同時(shí)測(cè)量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù),并且“一鍵”出結(jié)果。測(cè)量范例多晶硅被廣范用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測(cè)量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對(duì)比,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測(cè)得。F20可以很容易地測(cè)量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來(lái)測(cè)量多晶硅薄膜光學(xué)特性。Thin film analyzer膜厚儀當(dāng)?shù)貎r(jià)格