CVD閘閥插板閥

來源: 發(fā)布時間:2024-10-12

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。正確安裝、定期維護以及遵守制造商指南對于這些閥門的性能發(fā)揮和使用壽命至關(guān)重要。CVD閘閥插板閥

閘閥

微泰,專門用閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion(擴散)?CVD等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。期特點是*使用維修配件工具包易于維護*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關(guān)*?速度控制器&電磁閥(2Port+N2Port)用不銹鋼管連接(φ6)*應(yīng)用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸:4英寸~ 8英寸、法蘭類型:ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時間:≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體業(yè)績。


極高真空閘閥法蘭閘閥真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時的高真空完整性,防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。

CVD閘閥插板閥,閘閥

真空閥可以根據(jù)其工作原理、結(jié)構(gòu)特點、應(yīng)用領(lǐng)域等多種方式分類。以下是一些常見的分類方法:1.按工作原理分類:o機械式真空閥:通過機械運動來控制真空環(huán)境的開關(guān)。o電磁式真空閥:利用電磁力來驅(qū)動閥門的開啟和關(guān)閉。o氣動式真空閥:使用壓縮空氣或氣體作為動力源來控制閥門動作。o熱導(dǎo)式真空閥:利用熱導(dǎo)原理,通過加熱或冷卻來控制真空度。2.按結(jié)構(gòu)特點分類:o直通式真空閥:流體通道為直線型,適用于高真空系統(tǒng)。o角式真空閥:流體通道呈90度彎曲,常用于空間受限的場合。o三通式真空閥:具有三個接口,可以實現(xiàn)流體的分流或合流。o多通路真空閥:具有多個通道,適用于復(fù)雜的真空系統(tǒng)。3.按應(yīng)用領(lǐng)域分類:o半導(dǎo)體行業(yè)真空閥:用于半導(dǎo)體制造過程中的真空環(huán)境控制。o化工行業(yè)真空閥:適用于化工生產(chǎn)中的真空過濾、蒸餾等過程。o真空鍍膜用真空閥:在真空鍍膜設(shè)備中用于控制真空度。o實驗室真空閥:用于實驗室真空環(huán)境的搭建和維持。4.按控制方式分類:o手動真空閥:通過手動操作來控制閥門的開關(guān)。

微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體生產(chǎn)線中粉末和氣體等副產(chǎn)品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。閘閥通過閥座和閘板接觸進行密封,通常密封面會堆焊金屬材料以增加耐磨性。

CVD閘閥插板閥,閘閥

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點:插板閥主滑閥的球機構(gòu)方式-在量產(chǎn)工藝設(shè)備上的性能驗證-由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷和金屬觸摸驅(qū)動無顆粒-已向中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認可,已完成對半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證,而其他廠家閘閥金屬和金屬觸摸驅(qū)動產(chǎn)生大量顆粒。使用鋼陶瓷球,與金屬摩擦?xí)r不會損壞,金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生Particle,半永久板簧(SUS鋼板)的應(yīng)用確保閥門驅(qū)動同步性,采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動,安裝時有方向性。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥,同時流體阻力大。PVD閘閥UMC

真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是,它也有可用于控制氣流。CVD閘閥插板閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。CVD閘閥插板閥